清洗工艺研发专家-TD WET Process Expert(J14104)

1. 超洁净清洗机理研究：聚焦工艺，研究硅片、光罩、晶圆盒等材料的超洁净清洗机理，主导开发高选择性、低损伤的湿法与干法清洗工艺； 2. 技术指导与故障排查：提供WET工艺的技术指导，主导工艺问题故障排查，分析根因并提出并实施有效的解决方案； 3. 新型配方设计与验证：主导新型清洗液、去胶剂、表面活性剂的配方设计与验证，推动新型化学品在工艺中的应用落地； 4. 技术攻关与团队领导：主导团队攻克技术难题，推进新技术和新材料的应用，确保技术目标达成； 5. 跨部门项目协同：参与跨部门项目，主导对外部门的日常协调工作，推动项目按计划闭环。 【任职要求】 1. 教育背景与专业知识：硕士及以上学历，理工科背景，物理、化学、材料等相关专业； 2. 专业技能与资格：熟悉半导体工艺流程，精通湿法和干法清洗工艺及机台工作原理，能独立完成工艺故障排查与根因分析； 3. 行业与专业经验：具有8年以上半导体WET PE经验，有WET工艺研发经验者优先； 4. 项目/任务成果：主导过至少2个新型清洗工艺或材料开发项目，并能输出标准工艺方案及技术报告； 5. 其他要求：具有良好的组织协调能力和团队合作精神，具有多任务管理能力，能承担高强度高压力的工作。