仿真设计(J14682)

依据半导体工艺需求，开发新的OPC（光学临近效应修正）解决方案；对工艺中存在的问题，持续改进和优化OPC解决方案，主要包括以下方面: 1.负责OPC数据的收集、分析和整理 2.负责三维存储器及其他新型存储器研发所需的光刻模型开发 3.负责OPC脚本建立、维护及验证等工作 4.引入和评估新材料、新仿真软件，降低工艺成本和计算成本 5. 应用AI工具提升OPC工作效率和能力 【任职要求】 学历要求：硕士及以上学历 专业要求：光学/物理/微电子/集成电路等理工类相关专业优先 其它要求： 1.熟悉物理光学、光刻工艺相关理论知识，对计算光学、光学成像、半导体工艺有一定了解，具备独立研发能力及出色的逻辑思维 2.良好的沟通表达能力、组织协调能力和团队合作精神 3.具备英语文献阅读能力和写作能力 4.有责任心，能适应和适应半导体研发工作模式和压力 5.具有一定编程能力，光学、光刻仿真软件使用经验者优先